在电子行业主要是线路板、电子元器件生产过程中都需要使用超纯水处理设备，这类产品精密度高，在生产过程中的重要度也在不断的提升，已经逐渐成为能影响产品生产质量的重要因素。一款好的超纯水处理设备，能将生产线路板、电子元器件生产过程中直接影响到实验结果和生产结果的金属离子降到很低，使生产产品品质得到不错的提升效果。

在晶体管、集成电路生产中，超纯水处理设备主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水设备清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属（K、Na等）会使绝缘膜耐压不良，重金属（Au、Ag、Cu等）会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素（B、Al、Ga等）会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素（P、As、Sb等）会使P型半导体特性恶化，水中细菌高温碳化后的磷（约占灰分的20-50%）会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒（包括细菌）如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

电子行业超纯水设备特点

   目前我国电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，线宽越窄，对水质的要求也越高。

   电子行业超纯水处理设备中除了水分子(H20)外，几乎没有什么杂质，更没有细菌、病毒、含氯二恶英等有机物，当然也没有人体所需的矿物质微量元素。这种级别的超纯水是一般工艺很难达到的程度，如水的电阻率大于18MΩ*cm，接近于18.25MΩ*cm则称为超纯水。目前，超纯水设备的方法通常采用反渗透，离子交换或EDI膜堆技术等工艺进行制备。